金融界2025年5月9日消息，国家知识产权局信息显示，三星显示有限公司申请一项名为“沉积掩模和用于制造沉积掩模的方法”的专利，公开号CN119932474A，申请日期为2024年11月。

　　专利摘要显示，本申请涉及沉积掩模和用于制造沉积掩模的方法。沉积掩模包括：硅基底，包括：多个单元区域；除多个单元区域之外的掩模框架区域，DG视讯·(中国区)官方网站掩模框架区域包括分隔多个单元区域的掩模肋区域；以及外框架区域，设置在硅基底的最外部处；掩模肋，设置在掩模肋区域中；掩模膜片，设置在多个单元区域中的每一个中；第一金属框架，DG视讯·(中国区)官方网站设置在外框架区域中；以及第二金属框架，DG视讯·(中国区)官方网站围绕硅基底的外部并连接到第一金属框架。